先端 半導体 をつくる
目次
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微細 化 と構造 の立体 化 が進 むも、半導体 製造 の基本 は変 わらずPart1 いまさら
聞 けない半導体 製造 工程 日本 の半導体 産業 が活気 を取 り戻 そうとしている。台湾 積 体 電路 製造 (TSMC)は2024年 2月 、熊本 県 に建設 した半導体 工場 で開所 式 を開 いた。次世代 ロジック半導体 の国産 化 を目指 すRapidus(ラピダス、東京 ・千代田 )は北海道 に工場 を建設 中 だ。 -
造 れるのは世界 でASML1社 のみ、鍵 を握 るのはミラーレンズと光源 Part2
進化 を支 える(EUV露光 装置 )半導体 デバイス微細 化 のカギとなるのが、波長 13.5nmの極端 紫外線 (EUV)を使 うEUV露光 装置 だ。フォトリソグラフィー工程 において、フォトマスクのパターンをウエハー上 に転写 する露光 を担 う。7nm世代 以降 のロジック半導体 や最先端 メモリーの製造 で不可欠 な同 装置 は、世界 でオランダASMLだけが供給 して… -
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深 く、もっと速 く 3次元 半導体 が突 きつける難問 Part2
進化 を支 える(エッチング装置 )もっと
深 く、速 く、直線 的 に─。先端 半導体 の構造 変化 が、ウエハー上 の薄膜 を削 るエッチング装置 に新 たな課題 を突 きつけている。ロジック半導体 やDRAM、NANDフラッシュメモリー(以下 、「NAND」)の先端 品 に共通 するのは、垂直 方向 の面積 を素子 形成 に活用 する技術 トレンドだ。「Selective Etch… -
ウエハー
平 たん化 の最前線 、ムーア氏 も驚 く研磨 技術 の功績 Part2
進化 を支 える(CMP装置 )東京 23区 の凹凸 を1mm以下 に平 らにする精度 ─。昨今 の半導体 製造 においてウエハーの平坦 (たん)さを表現 するのに、しばしば使 われる例 えだ。先端 半導体 の製造 では、研磨 によって300mmウエハー表面 の凹凸 を数 nm以下 に加工 する。この研磨 技術 は、1990~2000年代 にかけて目覚 ましい技術 革新 が起 こり、近 … -
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枚 ずつ洗 う枚 葉 式 がもはや7割 超 、微細 化 進 みバッチ式 では対応 しきれずPart2
進化 を支 える(ウエハー洗浄 装置 )「
半導体 ウエハー洗浄 装置 は、確実 にバッチから枚 葉 に移行 している」─。SCREENホールディングス傘下 で半導体 製造 装置 を手掛 けるSCREENセミコンダクターソリューションズ(京都 市 )社長 の後藤 正人 氏 は、同社 がトップシェアを誇 るウエハー洗浄 装置 についてこう語 る。 -
米国 が敷 く対 中国 規制 も一転 商機 に、世界 を独占 する日本 企業 Part3
米 中 対立 に明暗 (搬送 装置 )米国 が中国 に対 して講 じている半導体 関連 の輸出 規制 が、半導体 製造 を支 える装置 メーカーの明暗 を分 けている。米 バイデン政権 は2022年 10月 、中国 の軍事 力 強化 の阻止 を目的 として、主 に先端 半導体 の製造 に必要 な装置 や技術 の中国 への輸出 を事実 上 禁止 する方針 を打 ち出 した。多 くの半導体 製造 装置 メーカーにとって、先 …