半導体 工学
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設計 [編集 ]
回路 設計 - プロセス・デバイス
構造 の設計 (シミュレーション) 製造 用 機器 の設計
製造 技術 [編集 ]
- チョクラルスキー
法 - ゾーンメルト
法 拡散 (熱 拡散 )・酸化 (熱 酸化 )蒸着 - スパッタリング
- スピンコート
- CVD(
化学 気 相 成長 法 ) - PVD(
物理 気 相 成長 法 ) - MBE(
分子 線 エピタキシー法 ) エピタキシャル成長 - イオン
注入 - フォトリソグラフィ(パターニング)
- エッチング
- FIB(focused ion beam)
- CMP(
化学 機械 研磨 ) - メタライズ(
配線 )多層 配線
製造 時 の欠陥 検出 - ダイシング
- パッケージング(
組立 )
半導体 の物性 ・特性 の測定 手段 [編集 ]
電気 伝導 度 - ホール
効果 - PN
接合 やショットキー接合 の特性 : 組成 や不純物 :EDX、EPMA、SIMS、ICP構造 :光学 顕微鏡 、XRD、RBS、ラマン効果 、SEM、TEM、AFM、XRF、SPM、SCM- バンド
構造 など:光 電 効果 ・光 電子 分光 、逆光 電子 分光 、DLTS、フォトルミネセンス
製品 の性能 評価 [編集 ]
電気 的 特性 - DC
特性 - AC
特性
- DC
寿命 信頼 性