蝕刻

班はん克かつ菲尔德とく博物はくぶつ馆的てき186个蚀刻こく玻璃はり

蝕刻是ぜ指ゆび以酸性さんせい、腐蝕ふしょく性せい或ある有ゆう研磨けんま效用こうよう的てき物質ぶっしつ在ざい玻璃はり表面ひょうめん上じょう創作そうさく的てき技術ぎじゅつ。傳統でんとう上じょう，這段過程かてい是ぜ在ざい玻璃はり吹製好こう或ある鑄い好之よしゆき後ご進行しんこう的てき。

1920年代ねんだい，人にん們發明はつめい一いち種しゅ新しん的てき模も刻こく技術ぎじゅつ，即そく將はた圖案ずあん直接ちょくせつ刻こく在ざい鑄い模も上うえ。所以ゆえん當とう鑄い模も好こう了りょう之これ後ご，圖案ずあん就已經けい在ざい玻璃はり的てき表面ひょうめん上うえ了りょう。這項技術ぎじゅつ降くだ低てい了りょう製作せいさく成本なりもと，且結合けつごう彩色さいしき玻璃はり的てき廣こう泛運用うんよう導しるべ致了1930年代ねんだい便宜べんぎ花瓶かびん的てき出現しゅつげん，這些花瓶かびん後來こうらい被ひ稱しょう之の為ため「Depression glass」。因よし為ため用よう在ざい此過程かてい中ちゅう的てき酸さん劑ざい很危險けわし，現在げんざい大だい多た是ぜ使用しよう研磨けんま的てき方法ほうほう。

到いた了りょう近代きんだい，現在げんざい的てき蝕刻應用おうよう在ざい半導體はんどうたい的まと製せい程ほど上じょう，透過とうか黃き光こう製せい程ほど來らい定義ていぎ出で想そう要よう的てき圖形ずけい，利用りよう蝕刻來らい得え到いた。

半導體はんどうたい的てき蝕刻可分かぶん為ため乾式かんしき蝕刻與あずか溼式蝕刻：

• 乾式かんしき蝕刻：透過とうか電でん漿的てき解離かいり，形成けいせい離はなれ子こ與あずか物質ぶっしつ表面ひょうめん進行しんこう化學かがく反應はんのう或ある是ぜ物理ぶつり轟とどろき擊げき，屬ぞく於非等とう向性こうせい的てき蝕刻。
• 濕式しっしき蝕刻：利用りよう化學かがく的てき液體えきたい與あずか物質ぶっしつ進行しんこう化學かがく反應はんのう。屬ぞく於等向性こうせい的てき蝕刻。常用じょうよう的てき蝕刻方式ほうしき有ゆう：
  • 浸入しんにゅう式しき：将はた板いた浸入しんにゅう蝕刻液えき中ちゅう，用よう排はい笔轻轻刷扫。
  • 泡沫うたかた式しき：用よう压缩空そら气将蝕刻液えき吹成泡沫うたかた，对板进行腐くさ蚀。
  • 泼溅式しき：用よう离心力りょく将はた蝕刻液えき泼溅到いた覆くつがえ铜板上じょう。
  • 喷淋式しき：用よう蚀刻机つくえ的てき塑料泵将蝕刻液えき氯化铁压送到いた喷头，呈てい雾状微粒びりゅう高速こうそく喷淋到由よし传送带运送的てき覆くつがえ铜板上じょう，进行连续蚀刻。

参まいり见

• 雕版