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薄膜うすまく

出典しゅってん: フリー百科ひゃっか事典じてん『ウィキペディア(Wikipedia)』

薄膜うすまく(はくまく)とはうすまくのこと。分野ぶんやによって定義ていぎことなる。

  1. 表面ひょうめん物理ぶつりがくでの薄膜うすまく(Thin film)は、試料しりょう基板きばんじょう蒸着じょうちゃくスパッタリングひとし手法しゅほう使つかってつくられる、かずすうじゅうそうからなる原子げんしそうのこと。
  2. ソフトマターでの薄膜うすまくは、両親りょうしんなかだちせい分子ぶんし参照さんしょう

以下いか項目こうもくは1の薄膜うすまくについての記述きじゅつとなっている。

製造せいぞう方法ほうほう

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薄膜うすまく製造せいぞう方法ほうほう以下いかのように分類ぶんるいできる。[1]

しょう堆積たいせきほう

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-原料げんりょう気体きたいを、蒸発じょうはつやスパッタリングなどの物理ぶつりてき手法しゅほう発生はっせいさせる方法ほうほう
-物質ぶっしつ真空しんくうちゅう蒸発じょうはつさせて、基板きばんじょう薄膜うすまく成長せいちょうさせる方法ほうほう
  • スパッタリング
    こうエネルギーのイオンや原子げんしをターゲット材料ざいりょう衝突しょうとつさせることによって、ターゲット材料ざいりょう表面ひょうめんから原子げんしたたされることを利用りようする方法ほうほう
-気体きたい原料げんりょうを、基板きばん近傍きんぼうで、ねつやプラズマによって反応はんのうさせて薄膜うすまく生成せいせいする方法ほうほう

えきしょう堆積たいせきほう

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  • とおるえきほう
-えきしょうエピタキシー(LPE)など

薄膜うすまく分類ぶんるい

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薄膜うすまくまくあつみによって分類ぶんるいされ以下いかのようになる。

  • まくあつみがすう10μみゅーmならばあつまく
  • まくあつみがかずμみゅーmならば薄膜うすまく
  • まくあつみがすうnm以下いかならばちょう薄膜うすまく

また、薄膜うすまく特性とくせいからコールドミラーコート、バンドパスフィルター、反射はんしゃ防止ぼうしコートなど様々さまざま種類しゅるい分類ぶんるいされている。

薄膜うすまく測定そくてい

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薄膜うすまくあつみは2種類しゅるい測定そくていされる。1つ物理ぶつりまくあつばれるたんなる薄膜うすまくあつみであり、これは水晶すいしょう振動しんどうばれる電圧でんあつをかけると振動しんどうして周波数しゅうはすう発生はっせいさせる機器ききもちいる。2つ光学こうがくまくあつばれるものでまくあつみにまく屈折くっせつりつをかけることでられるものである。実際じっさいには、光学こうがくまくあつ計算けいさんではなく、光学こうがくモニターによって測定そくていされている。

薄膜うすまく評価ひょうか

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薄膜うすまく評価ひょうかする方法ほうほう多数たすう存在そんざいし、電子でんしせんもちいる方法ほうほう(LEED、SEMTEMなど)、イオンもちいる方法ほうほう(ISS、SIMSなど)、Xせん回折かいせつもちいるものや応力おうりょく検査けんさなどがある。

脚注きゃくちゅう

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出典しゅってん

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  1. ^ 金原かなはら つばら薄膜うすまく工学こうがく」、丸善まるぜん出版しゅっぱん平成へいせい28ねんISBN 978-4-621-30098-5 

関連かんれん項目こうもく

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外部がいぶリンク

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